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    李兴表示他信任刘工的人品，他认为这不是无线电厂有意为之，实在是接触式光刻机的弊端太明显。

    「由于65光刻机本质上就是一台投影曝光器，他需要将光掩模完全覆盖在光刻胶上，这其中包括烘焙控温以及覆盖和光照的多少等等，各种变量工艺太多，中间哪怕出现一点小小偏差，就能导致整张硅片报废。」李兴说。

    跟后世一样，高制程推进不下去，不是制造技术方面的原因，归根结底还是缺少更好的光刻机。

    「这些我知道，那我们可以试着把光掩模从光刻胶上抬起来试试看，你不是说国外新一代光刻机都是这么做的吗？」郑南问。

    李兴苦笑：「厂长，这样做行不通的，因为光并不是沿直线传播的。」

    李兴告诉郑南光具有波粒二象性，或许眼睛看起来光是一条直线，可当光穿过窄缝，就是呈现水波纹一样的扩散特性。

    「简单说就是光在穿过一微米的窄缝以后，马上就会扩大到两微米甚至更大，甚至光掩模抬的距离越高，扩散的范围也会越大，这样反而还没原来的制程精细了。」

    李兴还说光在通过几个相邻的窄缝，还会发生自己跟自己干涉的现象，导致成像更加模糊不清。

    郑南扶额，看来自己对光刻机还有芯片制造工业的了解还是浅显了，没想

    到只是一个制程推进，居然还牵扯到了当年逼疯爱因斯坦大佬的光的波粒二象性和双缝干涉实验上，那可是连爱因斯坦这种级别的大佬都没辙的玩意。

    直接点说，就是接触式光刻法，良品率无法保证；但要是抬起来光掩模不接触光刻，精度又无法保证，简直鱼与熊掌不可兼得。

    原本郑南还很雄心勃勃，想着自己能跟那些重生网文的主角一样，轻松搞出光刻机来。

    现在别说后世的深紫外极紫外光刻机了，就一个光的波粒二象性就能轻松卡死自己，遥想自己曾经看的那些轻松造光刻机的网文，那真是对光学系统甚至是最基本的光学芯片知识都完全无知呀！

    这板马日的不是白耽误自己重生的工夫吗？
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